一種WC-Ni-DLC納米複（fù）合塗層（céng）屬於硬質合金複合塗層技術（shù）領域,WC-Ni-DLC納米複合塗層由陰極電弧離子鍍結合陽極層離子源複合製備（bèi）而成。製備的WC-Ni-DLC納米複合塗層厚度可達30~60微米，其（qí）厚（hòu）度顯著優於（yú）常規氮（dàn）化物（wù）和碳化物硬質塗層,在室溫-500C範圍內的摩擦係數為0.11~0.25,且在此（cǐ）溫度範圍內能夠始終保持較低的摩擦係數和優良的抗磨損性能，可廣泛應用於刀具等機（jī）械加工行業，對推動（dòng）綠色加工行業的發展（zhǎn）和節能降耗，具有重要的實際意義。

WC-Ni-DLC納米複合塗層的製備方法,其特征在於,所述（shù）的WC-Ni-DLC納米複合塗層的製備方法,包括以下步驟:

1:準備

以WNi合金為陰極電弧離子鍍靶材，陰（yīn）極電弧離子鍍靶材的（de）靶麵和陽極層離子源靶材的靶麵法向線重合，陰極電弧離（lí）子鍍靶材的靶麵和陽極層離子源靶材的靶麵（miàn）之間的間（jiān）距為450~500mm;將陰（yīn）極電弧離子鍍靶材和陽極層離（lí）子源（yuán）靶材設置在真空室（shì）中（zhōng）,且靶麵（miàn）法向（xiàng）線和真空（kōng）室（shì）中心線在（zài）同一平麵內切垂直:將鍍膜基材樣品設置在（zài）真空室中的試樣架中;當真空室壓強≤6X10Pa時,開始加熱,當真空室壓強小於2X10Pa,真空室溫度保持（chí）在460~470C，開始鍍膜:

2:鍍膜

向真空室內通入Ar,使得真空室壓強為0.1~0.2Pa,鍍膜基材樣品公轉,開啟陽極層離子源,設置功率為3.5~4KW,電壓為（wéi）1200~1500V,時間為1020min;調整陽極（jí）層離（lí）子源的功率為1.5~2.5KW電為800~1000V,持續通入Ar開啟（qǐ）偏壓電源負偏壓值範圍為400~600V，開啟陰極（jí）電弧離子（zǐ）鍍電源，調節陰極電弧離子鍍靶（bǎ）材的電流至70~80A,沉積得到WNi合金層（céng），所（suǒ）沉積的WNi合金（jīn）層厚度1~2微米,時間5~10min;S3:通入乙炔反應。

向真空室內通入乙炔,至真空室內總壓強為0.5~0.6Pa,沉積（jī）150~300min,得到沉積在鍍膜基材樣（yàng）品（pǐn）上的WC-Ni-DLC納米複合（hé）塗層。7.根據權利要求6所述（shù）的WC-Ni-DLC納米複合塗層的製備方法，其特征在於，所述的S1中，陰極電弧離子鍍的靶材的靶（bǎ）麵直徑為100mm;陽極層離子源的靶（bǎ）麵直徑為150mm。8.根據權利要求6所述的WC-Ni-DLC納米複合塗層的製備方法，其特征在於，所（suǒ）述的S2中鍍膜基材樣品公轉的速率為10~15r/min,自轉速（sù）率為30~40r/min。9.權利要求1~4任意一項所述的（de）WC-Ni-DLC納（nà）米複合塗層的應用,其特征在於,將WCNi-DLC納米複合塗層鍍在硬質合金刀具上或（huò）鍍在（zài）碳素工具鋼刀具上。10.根據權（quán）利要求9所述的（de）WC-Ni-DLC納米複合塗層（céng）的應用,其特征在於,刀（dāo）具為車刀銑刀、鑽頭（tóu）中的一種。